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NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng)
薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。
特點
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可分析單層或多層薄膜
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分辨率達0.1nm
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適合于在線監(jiān)測
操作理論
最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。
查找n和k值
可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。
應(yīng)用
NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。
NanoCalc系統(tǒng)
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NC-UV-VIS-NIR |
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重量： |
250-1100nm |
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厚度： |
10nm-70µm |
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光源： |
氘鹵燈 |
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NC-UV-VIS |
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重量： |
250-850nm |
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厚度： |
10nm-20µm |
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光源： |
氘鹵燈 |
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NC-VIS-NIR |
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重量： |
400-1100nm |
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厚度： |
20nm-100µm (可選1µm-250µm) |
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光源： |
鹵燈 |
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NC-VIS |
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重量： |
400-850nm |
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厚度： |
50nm-20µm |
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光源： |
鹵燈 |
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NC-NIR |
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重量： |
650-1100nm |
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厚度： |
70nm-70µm |
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光源： |
鹵燈 |
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NC-NIR-HR |
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重量： |
650-1100nm |
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厚度： |
70nm-70µm |
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光源： |
鹵燈 |
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NC-512-NIR |
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重量： |
900-1700 nm |
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厚度： |
50nm-200µm |
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光源： |
高亮度鹵燈 |
NanoCalc規(guī)格
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入射角 |
90° |
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層數(shù) |
3層以下 |
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需要進行參考值測量 |
是 |
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透明材料 |
是 |
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傳輸模式 |
是 |
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粗糙材料 |
是 |
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測量速度 |
100ms - 1s |
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在線監(jiān)測 |
可以 |
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公差（高度） |
參考值測量或準直(74-UV) |
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公差（角度） |
參考值測量 |
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微黑子選項 |
配顯微鏡 |
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顯示選項 |
配顯微鏡 |
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定位選項 |
6"和12" XYZ 定位臺 |
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真空 |
可以 |
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